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                  發(fā)布日期:2023-09-21 11:18:01
                  信息摘要:
                  【工藝技術(shù)】不銹鋼常用的幾種拋光方法目前常用的不銹鋼拋光方法有以下七種:1機(jī)械拋光2化學(xué)拋光3電解拋光4超聲波拋光5流體拋光6磁研磨拋光7.化學(xué)機(jī)械拋光1、機(jī)械拋光機(jī)械拋光是靠切削、材料表面……

                  【工藝技術(shù)】不銹鋼常用的幾種拋光方法

                  目前常用的不銹鋼拋光方法有以下七種:

                    1 機(jī)械拋光

                    2 化學(xué)拋光

                    3 電解拋光

                    4 超聲波拋光

                    5 流體拋光

                    6 磁研磨拋光

                    7.化學(xué)機(jī)械拋光

                  1、機(jī)械拋光

                  機(jī)械拋光是靠切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法,一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等,以手工操作為主,特殊零件如回轉(zhuǎn)體表面,可使用轉(zhuǎn)臺(tái)等輔助工具,表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制麻輪生產(chǎn)設(shè)備的磨具,在含有磨料的研拋液中,緊壓在工件被加工表面上,作高速旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)。利用該技術(shù)可以達(dá)到Ra0.008μm的表面粗糙度,是各種拋光方法中0高的。光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。

                  2、化學(xué)拋光

                  化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解,從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復(fù)雜設(shè)備,可以拋光形狀復(fù)雜的工件,可以同時(shí)拋光很多工件,效率高?;瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制?;瘜W(xué)拋光得到的麻輪生產(chǎn)設(shè)備表面粗糙度一般為數(shù)10μm。

                  3、電解拋光

                  電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步: (1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。(2)微光平整 陽(yáng)極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。

                  4、超聲波拋光

                  將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中,依靠超聲波的麻輪生產(chǎn)設(shè)備振蕩作用,使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀力小,不會(huì)引起工件變形,但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結(jié)合。在溶液腐蝕、電解的基礎(chǔ)上,再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液,使工件表面溶解產(chǎn)物脫離,表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻;超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過(guò)程,利于表面光亮化。

                  5、流體拋光

                  流體拋光是依靠高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達(dá)到拋光的目的。常用方法有:磨料噴麻輪生產(chǎn)設(shè)備射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅(qū)動(dòng),使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復(fù)流過(guò)工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物(聚合物狀物質(zhì))并摻上磨料制成,磨料可采用碳化硅粉末。

                  6、磁研磨拋光

                  磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷,對(duì)工件磨削加工。這種方法加工效率高,質(zhì)量好,加工條件容易控制,工作條件好。采用合適的磨料,表面粗糙度可以達(dá)到Ra0.1μm。

                  7.化學(xué)機(jī)麻輪生產(chǎn)設(shè)備械拋光

                  化學(xué)機(jī)械研磨技術(shù)綜合了化學(xué)研磨和機(jī)械研磨的優(yōu)勢(shì),是現(xiàn)在0常用的拋光方法,連手機(jī)殼,取卡針,按鍵等都是用金鑫平面研磨機(jī)拋光的。可以在保證材料去除效率的同時(shí),獲得較好的表面,得到的平整度比單純使用這兩種研磨要高出1-2個(gè)數(shù)量級(jí),并且可以實(shí)現(xiàn)納米級(jí)到原子級(jí)的表面粗糙度。而且拋光出來(lái)的鏡面效果亮度很高,沒(méi)有斷層,平面性好。一般用金鑫平面研磨機(jī)可以達(dá)到又快又好的效果。

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